[发明专利]硅异质结太阳电池的光处理方法有效

专利信息
申请号: 201910807141.7 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN110518095B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 赵晓霞;王伟;田宏波;周永谋;王恩宇;宗军 申请(专利权)人: 国家电投集团科学技术研究院有限公司;国家电投集团新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋合成
地址: 102209 北京市昌平区未来科技城国*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了硅异质结太阳电池的光处理方法。硅异质结太阳电池的光处理方法包括:至少一次光照处理,所述光照处理在形成非晶硅薄膜之后进行。由此,通过光照处理,对非晶硅薄膜进行适当能量光子的注入,提高非晶硅薄膜中氢原子的迁移,有效改善非晶硅薄膜的质量和异质结的界面态密度,提高硅异质结太阳电池的开路电压和填充因子,进而提高电池效率;而且,该光处理方法无需改变电池结构,简单易操作,稳定性好,适用于硅异质结电池的规模化生产。
搜索关键词: 硅异质结 太阳电池 处理 方法
【主权项】:
1.一种硅异质结太阳电池的光处理方法,其特征在于,包括:/n至少一次光照处理,所述光照处理在形成非晶硅薄膜之后进行。/n
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