[发明专利]版图修正方法

摘要

本发明提供了一种版图修正方法，包括：获取原始版图，原始版图中包括至少两个目标图案，目标图案中包括有第一图形和第二图形，第一图形为条形结构，第一图形和第二图形连接，目标图案的第一图形的一侧或两侧设置有另一目标图案的第二图形，并且，目标图案的第二图形与另一目标图案的第二图形间隔设置；在目标图案第一图形靠近第二图形的侧边上添加至少一个修正图形，或者，在另一目标图案中与目标图案第一图形所紧邻的边缘处，挖除至少一个图形。采用本发明提供的版图修正方法修正完成后，所制作出的掩膜版可以增加曝光的工艺窗口，有效地避免了断线或粘连等工艺缺陷，从而确保了最终形成在基底上的实际图案不会失真。

主权项

1.一种版图修正方法，其特征在于，所述方法包括：/n获取原始版图，所述原始版图中包括至少两个目标图案，所述目标图案中包括有第一图形和第二图形，第一图形为条形结构，所述第一图形和所述第二图形连接，所述目标图案的第一图形的一侧或两侧设置有另一目标图案的第二图形，并且，所述目标图案的第二图形与所述另一目标图案的第二图形间隔设置；/n在所述目标图案第一图形靠近第二图形的侧边上添加至少一个修正图形，以增加所述目标图案中第一图形靠近所述第二图形部分的宽度尺寸，或者，在所述另一目标图案中与所述目标图案第一图形所紧邻的边缘处，挖除至少一个图形，以增加所述另一目标图案与所述目标图案之间的间距。/n