[发明专利]光学临近矫正批量处理方法及其处理系统

摘要

本发明公开了一种适用于多种层次和或多种尺寸芯片图形的光学临近矫正批量处理方法，分别将光学临近矫正芯片图形中的图形和标记字符选定为不同的层，将标记字符层中相邻的字符连接为整体结构，生成第一类矩形，根据第一规则调整第一类矩形的长度和宽度作为标记字符前层，将图形层中相邻的多边形连接形成多边形连接结构，将各多边形连接结构填充生成的第二类矩形，根据第二预设规则调整第二类矩形的长度和宽度作为图形前层；将标记字符前层和图形前层合并为一层。本发明还公开了一种适用于多种层次和或多种尺寸芯片图形的光学临近矫正批量处理系统。本发明生成的前层图形能满足前后层位置关系的要求，图形整齐美观，易于统一调试和管理。

主权项

1.一种光学临近矫正批量处理方法，适用于具有多种层次和或多种尺寸光学临近矫正芯片图形，其特征在于，包括以下步骤：/n分别将光学临近矫正芯片图形中的图形和标记字符选定为不同的层；/n将标记字符层中相邻的字符连接为整体结构，生成能将整体结构包围的第一类矩形，根据第一规则调整第一类矩形的长度和宽度，该第一类矩形作为标记字符前层；/n将图形层中相邻的多边形连接形成多边形连接结构，将各多边形连接结构填充生成的第二类矩形，根据第二预设规则调整第二类矩形的长度和宽度，该第二类矩形作为图形前层；/n将标记字符前层和图形前层合并为一层，根据图形规则设置层次名称和编号。/n