[发明专利]用于改进的鳍临界尺寸控制的结构和方法在审

专利信息
申请号: 201910813994.1 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN112447708A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 陈冠蓉;陈奕志;谢升霖;林景彬;黄智睦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(南京)有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/10;H01L21/8234
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 陈蒙
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开涉及用于改进的鳍临界尺寸控制的结构和方法。一种半导体结构,包括:有源半导体鳍,具有第一高度;虚设半导体鳍,与有源半导体鳍相邻,并且具有小于所述第一高度的第二高度;隔离结构,位于有源半导体鳍和虚设半导体鳍之间;以及电介质帽盖,位于虚设半导体鳍上方。电介质帽盖与有源半导体鳍分离。
搜索关键词: 用于 改进 临界 尺寸 控制 结构 方法
【主权项】:
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