[发明专利]一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法有效
| 申请号： | 201910815576.6 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110632826B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 董帅;谢传明 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 苗娟 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法，能够实现将单片曝光变成卷对卷连续曝光，能够克服收放卷机构的收板长度误差、片间距误差的技术问题。基于卷对卷无掩模激光直写光刻设备，包括以下步骤：在片对卷的生产模式下，自动搜索对位靶标后开始对准；使用上一片的对准结果，计算出累计进板误差，自动修正下一片的对位参数后再执行曝光过程。本发明克服了卷对卷无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准问题，针对片对卷在生产过程中产生的进片误差和片间距误差，片对准记录的靶点坐标作为对准相机的定位标识，修正了进片误差和片间距误差，节省了相机搜索靶标的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩模 激光 光刻 设备 生产 对准 方法 | ||
【主权项】：
1.一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法，基于卷对卷无掩模激光直写光刻设备，其特征在于，包括以下步骤：/n在片对卷的生产模式下，自动搜索对位靶标后开始对准；/n使用上一片的对准结果，计算出累计进板误差，自动修正下一片的对位参数后再执行曝光过程。/n
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