[发明专利]一种钢带离子镀膜上色工艺在审
| 申请号： | 201910826781.2 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110453192A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 刘自然;卢威;陈元;钟日新;何振;缪朴 | 申请（专利权）人： | 肇庆宏旺金属实业有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司： | 44401 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 彭志坚<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 526238广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种钢带离子镀膜上色工艺，包括以下步骤：S1：钢带进入AEG室进行离子清洗，AEG室安装有阳极棒和清洗靶材，阳极棒位于清洗靶材的上方；在高真空环境下往AEG室通入氩气，通过氩气的辉光放电，产生高能量的氩离子，高能量的氩离子在磁场及阳极棒的作用下高速轰击钢带。清洗后的钢带进入真空镀膜段进行镀膜，真空镀膜段包括真空镀膜打底室和多个真空镀膜室；钢带先进入真空镀膜打底室进行靶材打底，然后依次进入多个真空镀膜室，采用磁控溅射镀膜法对其进行镀膜。本发明的钢带离子镀膜上色工艺溅射速率快，且溅射之后镀膜效果好，颜色均匀，色差小，耗费靶材少。 | ||
| 搜索关键词： | 钢带 真空镀膜 靶材 阳极棒 清洗 真空镀膜室 氩气 离子镀膜 高能量 氩离子 上色 镀膜 磁控溅射镀膜法 色差 高真空环境 镀膜效果 辉光放电 离子清洗 颜色均匀 溅射 磁场 轰击 | ||
【主权项】：
1.一种钢带离子镀膜上色工艺，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：钢带进入AEG室进行离子清洗，AEG室安装有阳极棒和清洗靶材，且阳极棒位于清洗靶材的上方；在高真空环境下往AEG室通入氩气，通过氩气的辉光放电，产生高能量的氩离子，高能量的氩离子在磁场及阳极棒的作用下高速轰击钢带，将黏附在钢带表面的附着物清洗干净；/nS2：AEG室与真空镀膜段密封连接，清洗后的钢带进入真空镀膜段进行镀膜，真空镀膜段包括真空镀膜打底室和多个真空镀膜室；/n钢带首先进入真空镀膜打底室进行靶材打底，真空镀膜打底室无需通入氮气，只通入氩气，在高真空环境下，通过氩气的弧光放电，产生的高能量的氩离子轰击靶材，溅射出来的靶材在磁场作用下高速沉积在钢带的表面，形成致密均匀的镀膜层；/n然后依次进入多个真空镀膜室，采用磁控溅射镀膜法对其进行镀膜，每个真空镀膜室内均安装有三条独立的柱弧靶材，钢带与每一条柱弧靶材均平行，并位于三条柱弧靶材的上方；在钢带上增加偏压，于高真空环境以及电流的作用下，通过氩气的弧光放电产生大量的氩离子，氩离子经过电场加速高速轰击柱弧靶材，溅射出来的靶材原子与氩气结合形成新的化合物，沉积在钢带表面形成镀膜层。/n
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