[发明专利]显示面板及其制造方法有效
| 申请号： | 201910831105.4 | 申请日： | 2019-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN110534532B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 刘少伟;塗俊达;林富良;何子维;李曼曼 | 申请（专利权）人： | 友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人： | 梁挥;孟超 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种显示面板及其制造方法。该制造方法包括提供一基板；形成一第一图案化遮光层；设置一缓冲层；形成一图案化半导体层；设置一第一绝缘层；形成一第一图案化金属层；以所述第一图案化金属层为掩模而进行一第一离子浓度注入，形成一轻掺杂区与一沟道区于所述半导体层；设置一遮光材料层于所述第一图案化金属层上，且图案化所述遮光材料层以形成一图案化遮光材料层；以及以所述图案化遮光材料层为掩模而进行一第二离子浓度注入，形成一重掺杂区于所述半导体层。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 面板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：/n提供一基板；/n形成一第一遮光层于所述基板，且图案化所述第一遮光层，以形成一第一图案化遮光层；/n设置一缓冲层于所述基板，且所述缓冲层覆盖所述第一图案化遮光层；/n形成一半导体层于所述缓冲层，且图案化所述半导体层，以形成一图案化半导体层；/n设置一第一绝缘层于所述基板，且所述第一绝缘层覆盖所述图案化半导体层；/n设置一第一金属层于所述第一绝缘层，且图案化所述第一金属层，以形成一第一图案化金属层；/n以所述第一图案化金属层为掩模而进行一第一离子浓度注入，形成一轻掺杂区与一沟道区于所述半导体层；/n设置一遮光材料层于所述第一图案化金属层上，且图案化所述遮光材料层以形成一图案化遮光材料层；以及/n以所述图案化遮光材料层为掩模而进行一第二离子浓度注入，形成一重掺杂区于所述半导体层。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司，未经友达光电(昆山)有限公司;友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910831105.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种驱动背板及其制备方法、显示面板
- 下一篇：显示面板
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
