[发明专利]屏蔽膜及其制作方法在审
| 申请号： | 201910835890.0 | 申请日： | 2019-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN112449566A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 刘麟跃;周小红;基亮亮 | 申请（专利权）人： | 苏州维业达触控科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;C25D1/10 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 杨波 |
| 地址： | 215026 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种屏蔽膜，包括由微电铸制备形成包括多条金属线的屏蔽区，以及由微电铸制备形成、连接于所述屏蔽区至少一侧、用以降低所述屏蔽区整体的厚度差异的缓冲区。本发明还公开了一种屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供具有屏蔽区图形凹槽以及与屏蔽区图形凹槽连接的缓冲区图形凹槽的固化胶层；在屏蔽区图形凹槽和缓冲区图形凹槽内采用微电铸制备屏蔽区以及与屏蔽区连接的缓冲区；将连接在一起的屏蔽区和缓冲区与固化胶层分离，获得屏蔽膜。通过微电铸制备屏蔽区以及在屏蔽区至少一侧制备缓冲区，使得屏蔽区的整体的厚度差异较小，从而使屏蔽区的厚度比较均匀，进而增强了屏蔽膜的电磁屏蔽效果。 | ||
| 搜索关键词： | 屏蔽 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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