[发明专利]基于铝纳米盘阵列结构偏振相关的等离子体彩色滤波器在审

专利信息
申请号: 201910838907.8 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN110531463A 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 肖功利;杨寓婷;杨宏艳;张开富;窦碗滢;杨秀华;李海鸥;傅涛;李琦;刘兴鹏 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: G02B6/126 分类号: G02B6/126;G02B6/122
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供的是一种基于铝纳米盘阵列结构偏振相关的等离子体彩色滤波器,属于微纳光电子领域,滤波器包括波导层,缓冲层和金属纳米盘,在波导层1上覆盖有缓冲层2,在缓冲层2上刻蚀有纳米金属盘3,4阵列,金属盘3和4分别组成的行会进行交叉排布。通过改变滤波器周期P,可以达到对覆盖整个可见光谱的光的操纵。本发明可以实现对对覆盖整个可见光谱的光的操纵,且具有偏振相关特性,可以提高微纳集成光学器件在集成光电路中的集成密度,能应用在高分辨率彩色显示中。
搜索关键词: 缓冲层 滤波器 可见光谱 波导层 覆盖 等离子体 高分辨率彩色 集成光学器件 偏振相关特性 彩色滤波器 光电子领域 集成光电路 金属纳米盘 交叉排布 纳米金属 阵列结构 金属盘 纳米盘 刻蚀 偏振 应用
【主权项】:
1.基于铝纳米盘阵列结构偏振相关的等离子体彩色滤波器,包括波导层1,波导层1上覆盖有缓冲层2,在缓冲层2上刻蚀有纳米金属盘3,4阵列,金属盘3和4分别组成的行,会进行交叉排布。波导层1选择材料为Si3N4其厚度H1固定为100nm,缓冲层2的材料选择MgF2,其厚度为H2固定为25nm,纳米金属盘3,4材料选择为Al,其厚度H3固定为20nm,纳米金属盘3的直径为D1,纳米金属盘4的直径为D2,D1与D2之间的关系固定为2*D2=D1,纳米金属盘3,4圆心之间的距离为P,为所设计滤波器的周期,金属盘3的直径D1与周期P的关系固定为D1/P=0.6。/n
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