[发明专利]一种制备窄间距的手性微纳结构的方法有效

专利信息
申请号: 201910839132.6 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN110515280B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 张中月;白瑜;唐先龙;景志敏;李颖 申请(专利权)人: 陕西师范大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 代理人: 竺栋
地址: 710119 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及微纳结构制备领域,具体涉及一种制备窄间距的手性微纳结构的方法,主要制备步骤包括涂覆光刻胶、电子束曝光、显影定影、倾斜蒸镀金属材料和剥离光刻胶。制备的过程中曝光较大尺寸的图形,通过倾斜蒸镀就可以制备出窄间距的金属微纳结构,并且该结构的参数可以通过蒸镀束流的角度和蒸镀时间进行调节。该制备方法操作简便,避免了制备小间距结构需要很高的工艺要求。
搜索关键词: 一种 制备 间距 手性 结构 方法
【主权项】:
1.一种制备窄间距的手性微纳结构的方法,其特征在于,包括以下步骤:/n准备基底:准备洁净的玻璃基底或者ITO基底;/n涂覆光刻胶:用甩胶机在准备好的基底表面甩一层光刻胶;/n电子束曝光结构图形:用图形发生器设计方形周期阵列结构,并用电子束对设定区域曝光刻蚀,得到宽度为d的缝隙;/n显影定影;/n蒸镀金属:采用电子束真空蒸发镀膜仪蒸镀金属材料;/n除胶:将蒸镀完金属的基底放入冷藏的丙酮溶液中除胶;/n冲洗:用去离子水将除胶后的基底用去离子水冲洗至洁净。/n
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