[发明专利]像素电极接触孔设计有效

专利信息
申请号: 201910845949.4 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN110676264B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 王建刚 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 杨瑞
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种像素电极接触孔设计,包括多个呈阵列排布的第一电极,每一所述第一电极包括第一侧、第二侧与第一接触孔,所述第一接触孔位于所述第一侧;多个蚀刻药液通道,每一所述蚀刻药液通道位于所述第二侧之间;多个第二电极,位于所述第一侧之间,每一所述第二电极包括第一端、第二端与第二接触孔,所述第一端延伸至所述蚀刻药液通道,所述第二接触孔位于所述第一端。本发明提供的像素电极接触孔设计,可以加快区域蚀刻药液的浸润,分割大块银残留甚至消除银蚀刻残留。
搜索关键词: 像素 电极 接触 设计
【主权项】:
1.一种像素电极接触孔设计,其特征在于,包括:/n多个呈阵列排布的第一电极,每一所述第一电极包括第一侧、第二侧与第一接触孔,所述第一侧的长度小于所述第二侧的长度,且所述第一接触孔位于所述第一侧;/n多个蚀刻药液通道,每一所述蚀刻药液通道位于所述第二侧之间;/n多个第二电极,位于所述第一侧之间,每一所述第二电极包括第一端、第二端与第二接触孔,所述第一端延伸至所述蚀刻药液通道,所述第二端位于所述第一侧上相邻两所述第一接触孔之间,且所述第二接触孔位于所述第一端。/n
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