[发明专利]真空配管阱装置、真空配管阱系统以及配管清理方法有效

专利信息
申请号: 201910857270.7 申请日: 2019-09-11
公开(公告)号: CN110960931B 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 堀冈佑吉;初春 申请(专利权)人: 河南一轮电子科技有限公司
主分类号: B01D46/00 分类号: B01D46/00;B01D46/26
代理公司: 北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11807 代理人: 李伟波;李永虎
地址: 450003 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及的真空配管阱装置、真空配管阱系统以及配管清理方法能够防止粉尘爆炸,同时高效地捕集氧化硅粉尘,并降低清理作业所需要的精力或时间。真空配管阱系统(9)具备:上框体(21);下框体(22),其与该上框体(21)能够分离地连结,收纳捕集由于单晶生长而产生的粉尘的捕集筒(29);以及旋转过滤器(70),其收纳在所述捕集筒(29)内,其中,通过圆筒(66)和条状的多个阻燃性叶片过滤器(BF)来构成该旋转过滤器(70),圆筒(66)枢设在捕集筒(29)的底部,条状的多个阻燃性叶片过滤器(BF)被配设成从该圆筒(66)的周面沿着径向延伸。
搜索关键词: 真空 配管阱 装置 系统 以及 清理 方法
【主权项】:
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