[发明专利]闪耀光栅及其制备方法和应用有效
申请号: | 201910857437.X | 申请日: | 2019-09-10 |
公开(公告)号: | CN110596801B | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 段天利;张锐;王尧;徐康;马续航;瞿学选 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 潘艳丽 |
地址: | 518055 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种闪耀光栅及其制备方法和应用。上述闪耀光栅的制备方法包括如下步骤:采用第一抗蚀剂在衬底上形成第一抗蚀层;将第一抗蚀层进行曝光和显影,形成具有图案的第一抗蚀层;在衬底上形成金属层,金属层遮盖第一抗蚀层;去除第一抗蚀层,得到具有多个间隔排列的金属条的金属层;在衬底上形成具有多个抗蚀条的第二抗蚀层,多个抗蚀条与多个金属条交替排列,且每个抗蚀条与相邻的一个金属条连接并构成一个图案单元,多个图案单元间隔排列;从衬底形成有第二抗蚀层的一侧对衬底进行离子刻蚀,以使第二抗蚀层被刻蚀,并使衬底上形成多个斜面;去除金属层,得到闪耀光栅。上述闪耀光栅的制备方法简单且能够得到纳米尺寸的闪耀光栅。 | ||
搜索关键词: | 闪耀 光栅 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种闪耀光栅的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:/n采用第一抗蚀剂在衬底上形成第一抗蚀层;/n将所述第一抗蚀层进行曝光和显影,形成具有图案的所述第一抗蚀层;/n在所述衬底上形成金属层,且所述金属层遮盖所述第一抗蚀层;/n去除所述第一抗蚀层,得到具有多个间隔排列的金属条的所述金属层;/n采用第二抗蚀剂在所述衬底上形成具有多个抗蚀条的第二抗蚀层,多个所述抗蚀条与多个所述金属条交替排列,且每个所述抗蚀条与相邻的一个所述金属条连接并构成一个图案单元,多个所述图案单元间隔排列,且每个所述图案单元中的所述金属条具有相对的第一边缘与第二边缘,所述抗蚀条的中心线位于所述金属条的所述第一边缘和所述第二边缘之间,或者所述抗蚀条的中心线与所述第一边缘重合,且所述抗蚀条的边缘均不超过所述第二边缘;/n从所述衬底形成有所述第二抗蚀层的一侧对所述衬底进行离子刻蚀,以使所述第二抗蚀层被刻蚀,并使所述衬底上形成多个斜面;及/n去除所述衬底上的所述金属层,得到闪耀光栅。/n
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