[发明专利]光电催化半导体材料的活性调控方法有效
申请号: | 201910858755.8 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN110449172B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 刘乐全;张琪琪;刘敏 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C25B11/073 | 分类号: | C25B11/073;C25B1/04;C25B1/55;C25B11/087 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人: | 李莎 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供一种光电催化半导体材料的活性调控方法,采用卤离子对半导体材料制成的电极材料进行表面修饰。本发明的方法能够显著提高半导体材料的催化活性并降低催化成本。 | ||
搜索关键词: | 光电 催化 半导体材料 活性 调控 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光电催化半导体材料的活性调控方法,采用卤离子对半导体材料制成的电极材料进行表面修饰。/n
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