[发明专利]一种基于反常霍尔效应的灵敏度可调节的磁场传感器件有效

专利信息
申请号: 201910859024.5 申请日: 2019-09-11
公开(公告)号: CN110726959B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 郜壮壮;于长秋;周铁军;温嘉红;李海 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01R33/07 分类号: G01R33/07
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杨舟涛
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于反常霍尔效应的灵敏度可调节的磁场传感器件。本发明从上到下依次为导电层、绝缘层、薄膜层、缓冲层,所述导电层用于接入控制电压,从而调控薄膜层垂直各向异性的大小,来调节磁性传感器件的灵敏度;其中薄膜层和缓冲层经过刻蚀微纳加工成的结构为十字结构,所述的薄膜层由CoFeB和MgO构成,当沿垂直于传感器件厚度方向通入的控制电压Us为一固定值时,传感器件横向两电极通入恒定电流I,检测来自于和电流方向一致的外部磁场H,而传感器件纵向两电极用于采集随外部磁场变化的电压,从而实现对外部磁场的检测。本发明可以灵活选择量程范围,准确测量外部磁场。
搜索关键词: 一种 基于 反常 霍尔 效应 灵敏度 调节 磁场 传感 器件
【主权项】:
1.一种基于反常霍尔效应的灵敏度可调节的磁场传感器件,其特征在于,该磁场传感器件具有多层膜结构,结构为:从上到下依次为导电层、绝缘层、薄膜层、缓冲层,所述导电层用于接入控制电压,从而调控薄膜层垂直各向异性的大小,来调节磁性传感器件的灵敏度;其中薄膜层和缓冲层经过刻蚀微纳加工成的结构为十字结构,所述的薄膜层由CoFeB和MgO构成,CoFeB的厚度为1.1-1.5nm,MgO的厚度为2-3nm。/n
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