[发明专利]用于校准成像系统的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201910861132.6 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN110960234B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 斯里克里希南·维斯瓦纳坦;阿伦·库马尔·钱德拉谢卡拉帕;纳西尔·艾哈迈德·德赛;李鑫;叶斌;丁庆勇;陈有尤 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;钱慰民
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明题为“用于校准成像系统的系统和方法”。本发明提供了一种校准用于对受试者进行成像的系统的方法。该方法包括确定该系统的操作以通过受试者传输X射线的X射线源的位置;以及至少部分地基于X射线源的视场来相对于该系统的检测器校准X射线源的位置,该检测器操作以接收由X射线源所传输的X射线。在实施方案中,该方法包括至少部分地基于该系统的至少一个相机而经由控制器来将该系统的X射线源定位在一个或多个校准位置处。在此类实施方案中,X射线源设置在移动臂上并且操作以通过受试者传输X射线,并且X射线源的视场在校准位置中的每一个校准位置处都基本上指向检测器。
搜索关键词: 用于 校准 成像 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
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