[发明专利]一种整合PECVD和PVD镀膜制造HIT电池的设备

摘要

本发明公开了一种整合PECVD和PVD镀膜制造HIT电池的设备，包括链式循环运行的载板，以及依次设置的机械手上料台、本征非晶硅镀膜体系、水平移载台一、N层非晶硅镀膜体系、翻转移载台、P层非晶硅镀膜体系、水平移载台二、TCO镀膜体系及机械手下料台，以及用于载板回传的载板回传循环系统一、载板回传循环系统二、载板回传循环系统三及载板回传循环系统四。该发明通过设备整合将上下各两层非晶硅的PECVD镀膜工艺和上下各一层TCO膜的PVD镀膜工艺集成到一台设备里，可以一次性完成HIT电池的6层膜的镀膜，具有产能高、设备占地面积小、设备制造成本低、自动化程度高等优点。

主权项

1.一种整合PECVD和PVD镀膜制造HIT电池的设备，其特征在于，包括链式循环运行的载板(230)，以及依次设置的用于硅片的机械手上料台(100)、用于硅片正反面镀膜的本征非晶硅镀膜体系(110)、用于硅片的水平移载台一(120)、N层非晶硅镀膜体系(130)、用于硅片的翻转移载台(140)、P层非晶硅镀膜体系(150)、用于硅片的水平移载台二(160)、TCO镀膜体系(170)及用于硅片的机械手下料台(180)；所述载板(230)包括用于本征非晶硅镀膜体系(110)的载板、用于N层非晶硅镀膜体系(130)的载板、用于P层非晶硅镀膜体系(150)的载板以及用于TCO镀膜体系(170)的载板；/n所述机械手上料台(100)与水平移载台一(120)之间设置有载板回传循环系统一(190)，所述载板回传循环系统一(190)位于所述本征非晶硅镀膜体系(110)的下方或侧边；/n所述水平移载台一(120)与翻转移载台(140)之间设置有载板回传循环系统二(200)，所述载板回传循环系统二(200)位于所述N层非晶硅镀膜体系(130)的下方或侧边；/n所述翻转移载台(140)与水平移载台二(160)之间设置有载板回传循环系统三(210)，所述载板回传循环系统三(210)位于所述P层非晶硅镀膜体系(150)的下方或侧边；/n所述水平移载台二(160)与机械手下料台(180)之间设置有载板回传循环系统四(220)，所述载板回传循环系统四(220)位于所述TCO镀膜体系(170)的下方或侧边。/n