[发明专利]一种用于蓝宝石研磨的粗磨液在审
申请号: | 201910862716.5 | 申请日: | 2019-09-12 |
公开(公告)号: | CN110669439A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 姚钦;宋述远;蔡金荣 | 申请(专利权)人: | 江苏吉星新材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 32200 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 212200 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于蓝宝石研磨的粗磨液,所述粗磨液由以下组分按重量份组成:磨料32~55份、分散剂1~3份、增稠剂1~3份、表面活性剂1~2份、碱性调节剂3~5份、去离子水55~90份;其中,所述磨料为碳化硅、碳化硼、二氧化硅、氧化铝中的一种,莫氏硬度>9,粒径60~100nm。本发明的粗磨液可用于蓝宝石化学机械抛光(CMP)工艺的粗抛光,抛光效果良好,有效提高了蓝宝石抛光工艺的良品率。 | ||
搜索关键词: | 蓝宝石 粗磨 磨料 化学机械抛光 表面活性剂 碱性调节剂 二氧化硅 莫氏硬度 抛光工艺 抛光效果 去离子水 研磨 粗抛光 分散剂 良品率 碳化硅 碳化硼 增稠剂 重量份 氧化铝 可用 粒径 | ||
【主权项】:
1.一种用于蓝宝石研磨的粗磨液,其特征在于,所述粗磨液由以下组分按重量份组成:磨料32~55份、分散剂1~3份、增稠剂1~3份、表面活性剂1~2份、碱性调节剂3~5份、去离子水55~90份;其中,所述磨料为碳化硅、碳化硼、二氧化硅、氧化铝中的一种,莫氏硬度>9,粒径60~100nm。/n
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