[发明专利]超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备有效
申请号: | 201910863246.4 | 申请日: | 2019-09-12 |
公开(公告)号: | CN110673444B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 晋云霞;孔钒宇;邵建达;曹红超;张益彬;王勇禄;陈俊明;孙勇;徐姣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;B05C5/02;B05C13/02;B05C15/00 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备,包括旋涂主机、上下样系统和总控系统,该设备主要由气浮转台、密封腔体、匀胶转盘、自动滴胶系统、上下样系统及控制台组成。所述的具有自动动平衡调节功能的气浮转台是该设备的关键所在,所述的匀胶转盘是采用补圆法尽可能地降低方形衬底旋转时产生的不规则气流对涂胶均匀性的影响,所述的上下样系统用于保障超大/超重衬底安全地上下涂胶机工位。本发明设备能够满足在直径近两米、重量约700kg的衬底表面进行光刻胶的涂布工艺,在通光口径内的涂胶不均匀性优于±3%。 | ||
搜索关键词: | 超大 超重 衬底 表面 光刻 均匀 设备 | ||
【主权项】:
1.一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备,其特征在于包括:旋涂主机(1)、上下样系统(2)和总控系统(3),/n所述的旋涂主机(1),包含上罩(4)、涂胶腔室(5)、匀胶转盘(6)、同步罩(10)、第一顶升装置(12)、上罩顶升装置(13)、气浮真空泵(14)、驱动电机(15)、自动滴胶系统(17)、气浮转台(19)、真空泵(20)、大理石底座(21)、密封卡扣(8)组成,以大理石底座(21)为基础,所述的气浮转台(19)、第一顶升装置(12)、驱动电机(15)安装在所述的大理石底座(21)上,所述的匀胶转盘(6)安装在气浮转台(19)上,所述的上罩顶升装置(13)安装于旋涂主机(1)的外侧,所述的上罩顶升装置(13)之顶是上罩(4),所述的同步罩(10)安装在所述的上罩(4)中心的下方,所述的同步罩(10)的直径与所述的匀胶转盘(6)的直径相等,所述的自动滴胶系统(17)安装在涂胶腔室(5)的底部,与所述的匀胶转盘(6)有一定距离,所述的自动滴胶系统(17)由储液桶、蠕动泵、滴胶管、转动电机和滴胶臂组成,这个是常识,所以没有具体展开。储液桶在下方通过滴胶管与滴胶臂连接,蠕动泵用来控制流量,当需要滴胶时,转动电机带动滴胶臂在样品上方滴液,所述的上罩(4)和涂胶腔室(5)的接触部分要密封完好,并密封卡扣(8)扣紧;/n所述的上下样系统(2)包含传送轨道(7)、传动电机(16)、第二顶升装置(18)和大理石底座(22)组成,在所述的大理石底座(22)上设置所述的第二顶升装置(18),该系统最上部分是两条平行传送轨道(7),在传送轨道(7)的下方安装所述的传动电机(16);/n所述的总控系统(3)通过线缆(9)与所述的第一顶升装置(12)、上罩顶升装置(13)、气浮真空泵(14)、驱动电机(15)、自动滴胶系统(17)、气浮转台(19)、真空泵(20)、第二顶升装置(18),传动电机(16)的控制端相连。/n
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