[发明专利]一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法有效
| 申请号： | 201910864147.8 | 申请日： | 2019-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN110674614B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 王彦辉;郑浩;李川;张春林;刘骁;胡晋;张弓;於凌 | 申请（专利权）人： | 无锡江南计算技术研究所 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 裴金华 |
| 地址： | 214100 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法，涉及存储系统工程化技术领域，包括以下步骤：S1：获取存储数据信号仿真眼图；S2：自定义有效Rx MASK规格尺寸；S3：统计有效Rx MASK中心点阵；S4：基于MASK中心点阵对存储信号眼图进行分析评价；S5：获得最佳中心点以及摆幅裕量和时序裕量。本发明一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法优选互连拓扑参数，优化访存信号通道，量化存储数据信号眼图质量评判标准，并确保存储系统有充分的设计裕量，还可以模拟训练机制的作业过程，根据摆幅和时序优先级权重配比，选择最恰当的中心点，计算对应的摆幅裕量、时序裕量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 rx mask 中心 点阵 信号 分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于RX MASK中心点阵的信号眼图分析方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：获取用于开展分析的存储数据信号仿真眼图；/nS2：自定义有效Rx MASK的规格尺寸；/nS3：统计有效Rx MASK中心点阵；/nS4：基于MASK中心点阵对存储信号眼图进行分析评价；/nS5：获得最佳中心点以及对应的摆幅裕量和时序裕量。/n
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