[发明专利]一种Ti合金表面纳米化辅助制备的Si-Co-Y共渗层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910864277.1 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110438441B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 张聪惠;田进;田伟 申请(专利权)人: 西安建筑科技大学;中联西北工程设计研究院有限公司
主分类号: C23C10/52 分类号: C23C10/52;C23C10/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 郭瑶
地址: 710055 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明还公开了一种Ti合金表面纳米化辅助制备的Si‑Co‑Y共渗层及其制备方法,本发明利用表面纳米化与扩散共渗工艺相结合的方式,通过高能喷丸在基体合金表面制备出纳米化组织,增加晶界数量和晶界缺陷,提高基体合金的表面活性,促进共渗过程中被渗原子在基体合金表面的吸附,并且喷丸引入的大量空位和位错能够促进被渗原子在基体合金中的扩散,进而促进Si、Co和Y的共渗,获得耐磨性能和高温抗氧化性能优良的Ti合金表面防护涂层体系,对于促进和拓展Ti合金的实际应用,具有重要意义和工程价值。
搜索关键词: 一种 ti 合金 表面 纳米 辅助 制备 si co 共渗层 及其 方法
【主权项】:
1.一种Ti合金表面纳米化辅助制备的Si‑Co‑Y共渗层,其特征在于,所述Si‑Co‑Y共渗层包覆在Ti合金的表面;所述Si‑Co‑Y共渗层由内到外依次为Ti5Si3内层、TiSi次内层、TiSi2次外层和含Y的(Ti,Co)Si2最外层。
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