[发明专利]一种激光雕刻机的点阵雕刻效果评价方法在审

专利信息
申请号: 201910868929.9 申请日: 2019-09-16
公开(公告)号: CN111401673A 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 彭世煜;田峰;徐利军;黄建松;王科 申请(专利权)人: 国营武汉新宇机器厂
主分类号: G06Q10/06 分类号: G06Q10/06;G06Q50/04;G07C3/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430061 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种激光雕刻机的点阵雕刻效果评价方法,确认大致的最小可辨识宽度d;确定激光雕刻标准图谱;激光雕刻;对激光激光雕刻效果评分;判断导致激光雕刻不良的因素。本方法简单有效,与现有经验性方法相比,本申请因为利用X轴和Y轴两个方向的条纹和间隙数量分别量化了最小条纹辨识宽度和最小间隙辨识宽度,从而使得激光雕刻的质量控制、过程能力控制以及产品异常的故障排除能力大为提高,能有效指导激光雕刻机用户的日常生产和维护作业。
搜索关键词: 一种 激光雕刻 点阵 雕刻 效果 评价 方法
【主权项】:
暂无信息
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