[发明专利]一种柔性梯度应变薄膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201910870429.9 | 申请日： | 2019-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN110620140B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 潘泰松;李宇;王海钱;颜卓程;姚光;高敏;林媛 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L21/02 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 吴姗霖 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种柔性梯度应变薄膜的制备方法及其应用，属于纳米薄膜制备技术领域。本发明通过在硅薄膜表面刻蚀形成对称且具有共同底边的等腰梯形结构，然后将具备图案的硅薄膜转移至经过预加载的PDMS衬底上，然后释放预加载，即可制备具有梯度应变的周期性纹波结构。本发明制备的具有纹波结构的柔性薄膜能够产生梯度应变，可以在不拉伸和不重复制样的前提下制备出不同大小的应变值，适用于多种环境和条件下的应变工程研究，节约资源，制备工艺简单，使用方便；并且梯度波纹和均匀波纹一样，具备一定的耐拉伸性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 梯度 应变 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种柔性梯度应变薄膜，包括柔性衬底和在衬底表面具有周期性纹波结构的硅薄膜，其特征在于，所述硅薄膜图形为两个关于上底边对称的等腰梯形，且所述两个等腰梯形具有同一上底边。/n
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