[发明专利]等离子体处理设备在审
| 申请号： | 201910875853.2 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN112530774A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 江家玮;徐朝阳;廉晓芳;范光伟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体处理设备包括：真空反应腔；位于所述真空反应腔内底部的下电极组件，所述下电极组件包括承载面，所述承载面用于承载待处理基片；位于所述真空反应腔顶部的气体分散板，所述气体分散板的侧壁具有第一卸荷槽；位于所述气体分散板下方的气体喷淋头，所述气体喷淋头朝向承载面。所述等离子体处理设备中气体分散板与气体喷淋头之间的热传导能力较强。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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