[发明专利]一种纳米测量仪器校准用标准样板及其制备方法在审
| 申请号： | 201910877455.4 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN110646639A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 杨亚威;王琛英;蒋庄德;景蔚萱;林启敬;刘明;张易军;毛琦;王松;张雅馨 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | G01Q40/02 | 分类号： | G01Q40/02;G01Q60/24 |
| 代理公司： | 61200 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 姚咏华 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 发明涉及一种纳米测量仪器校准用标准样板及其制备方法，利用原子层沉积工艺在基底表面沉积一层的Al | ||
| 搜索关键词： | 校准 纳米测量仪器 标准样板 光刻胶 去除 烘干 薄膜 原子层沉积工艺 原子力显微镜 电子束直写 薄膜表面 基底表面 曝光操作 曝光图案 显影部位 校准结构 残余的 纳米级 剩余光 显影液 一次性 后烘 显影 旋涂 沉积 制备 三维 腐蚀 图案 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种纳米测量仪器校准用标准样板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1，利用原子层沉积工艺在基底表面沉积一层的Al
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