[发明专利]一种四环素光催化降解材料及其制备方法在审
申请号: | 201910881396.8 | 申请日: | 2019-09-18 |
公开(公告)号: | CN110665506A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 赖小勇;暴彦吉;王晓中;郭茹;杨庆凤 | 申请(专利权)人: | 宁夏大学 |
主分类号: | B01J23/745 | 分类号: | B01J23/745;B01J35/10;B82Y30/00;B82Y40/00;C02F1/30;C02F101/38;C02F101/34 |
代理公司: | 44220 广州市一新专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 张芳 |
地址: | 750021 宁夏回族*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | 本发明涉及一种四环素光催化降解材料及其制备方法,其特点是:由三氧化二铁螺旋纳米线立方周期性排列而成,该纳米线的直径为3‑7nm,具有12nm的均一大介孔。本发明提供的高比表面有序大介孔三氧化二铁四环素催化材料在四环素的降解过程中表现出优良的降解性能,可以实现在很高程度对四环素的高效降解。 | ||
搜索关键词: | 四环素 三氧化二铁 纳米线 介孔 光催化降解 周期性排列 催化材料 高比表面 高效降解 降解性能 降解 制备 | ||
【主权项】:
1.一种四环素光催化降解材料,其特征在于:由三氧化二铁螺旋纳米线立方周期性排列而成,该纳米线的直径为3-7nm,具有12nm的均一大介孔。/n
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