[发明专利]一种磁控溅射制备非晶金属钒薄膜的方法在审
| 申请号： | 201910891147.7 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110607510A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 章嵩;涂溶;张联盟 | 申请（专利权）人： | 气相科技(武汉)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/02 |
| 代理公司： | 42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 崔友明;官群 |
| 地址： | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区理*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射制备非晶金属钒薄膜的方法，具体步骤如下：1)衬底的表面清洗；2)采用磁控溅射仪在衬底上沉积非晶金属钒薄膜：将衬底置于真空室内基片台上，抽真空至2.0×10 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 薄膜 非晶金属 沉积 制备 致密 有效防止金属 磁控溅射仪 电化学腐蚀 非晶态金属 抗腐蚀材料 氩气 表面清洗 表面形成 衬底表面 磁控溅射 工作气体 工作压强 溅射功率 均匀致密 耐腐蚀性 室内基片 抽真空 钝化膜 基片台 靶材 溅射 海洋 应用 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射制备非晶金属钒薄膜的方法，其特征在于，具体步骤如下：/n1)衬底的表面清洗：将衬底依次放入丙酮、无水乙醇中超声清洗，然后用去离子水冲洗，再用高纯干燥氮气吹干备用；/n2)采用磁控溅射仪在衬底上沉积非晶金属钒薄膜：在磁控溅射仪溅射靶座上安装纯钒靶材，将经步骤1)清洗备用的衬底置于真空室内基片台上，抽真空至2.0×10
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