[发明专利]一种气缸加压式环刀型修盘器及其清洗抛光垫的方法在审

专利信息
申请号: 201910892151.5 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN110549245A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 卓俊辉;孔令沂;邓菁;韩景瑞;孙国胜;李锡光 申请(专利权)人: 东莞市天域半导体科技有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B24B53/12;B24B29/00
代理公司: 44332 广东莞信律师事务所 代理人: 谢树宏
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及抛光设备技术领域,尤其涉及一种气缸加压式环刀型修盘器,包括:被吸附平台,开设在所述被吸附平台底部外围的环形刀口,及开设在所述被吸附平台底部的导流槽,所述环形刀口的高度为3mm~20mm、宽度为2mm~5mm,且所述环形刀口有0.5*45°~1*45°的倒角。应用于抛光设备、解决阻尼布抛光垫难以清洗内部、清洗不完全干净等问题,还具有结构设置简单及结构设置合理等特点。另,本发明还提供了一种气缸加压式环刀型修盘器清洗抛光垫的方法。
搜索关键词: 环形刀口 吸附平台 结构设置 抛光设备 加压式 修盘器 环刀 气缸 清洗 清洗抛光 导流槽 抛光垫 倒角 外围 应用
【主权项】:
1.一种气缸加压式环刀型修盘器,其特征在于,包括:被吸附平台,开设在所述被吸附平台底部外围的环形刀口,及开设在所述被吸附平台底部的导流槽,所述环形刀口的高度为3mm~20mm、宽度为2mm~5mm,且所述环形刀口有0.5*45°~1*45°的倒角。/n
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