[发明专利]一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法及其产品在审
| 申请号： | 201910897562.3 | 申请日： | 2019-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN110437760A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 孙攀;王健;牛建超 | 申请（专利权）人： | 上海精珅新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/38 | 分类号： | C09J7/38;C09J7/40;C09J11/04 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 董梅 |
| 地址： | 201507 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法及其产品，过程膜中基材为厚度25‑200μm的PET、PO、PVC或PP光学薄膜，其中一面经过电晕处理；压敏胶层为UV降粘胶层，包含压敏胶层质量的0.1—5%吸收波长在200—400nm内的光引发剂和0.5—10%纳米晶珠，压敏胶层涂覆于基材的电晕面上并覆盖离型膜，UV前剥离力为500—5000g/25mm、UV后的剥离力为0—100g/25mm。本发明在高温环境下使用时剥离力相对稳定，解决了UV减粘膜在高温环境下剥离力大幅度攀升的问题，避免残胶现象，增加工艺过程的稳定性，同时提高了成品率和效率，目前主要应用于模组的制程过程。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离力 压敏胶层 制程 高温环境 膜生产 基材 残胶现象 电晕处理 工艺过程 光学薄膜 光引发剂 吸收波长 成品率 离型膜 纳米晶 粘膜 电晕 降粘 胶层 模组 涂覆 覆盖 应用 | ||
【主权项】：
1.一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法，过程膜包括：基材（1）、压敏胶层（2）、离型膜（3），其特征在于，所述基材（1）为厚度25‑200μm的PET、PO、PVC或PP光学薄膜，其中一面经过电晕处理后，在室温或40‑60℃高温放置不少于3天，以便电晕产生的臭氧分解，防止对后段生产产生影响；所述压敏胶层（2）为UV降粘胶层，包含压敏胶层（2）质量的0.1—5%吸收波长在200—400nm内光引发剂和0.5—10%纳米晶珠，所述压敏胶层（2）涂覆于基材（1）的电晕面上并覆盖离型膜（3），UV前剥离力为500—5000g/25mm、UV后的剥离力为0—100g/25mm；所述压敏胶层（2）与离型膜（3）的离型面进行覆合后，进行熟化。
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