[发明专利]用于处理光辐射的装置有效
| 申请号： | 201910897652.2 | 申请日： | 2015-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN110764240B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 让-弗朗索瓦·莫里聚尔;纪尧姆·拉布鲁瓦勒;尼古拉斯·特雷普斯 | 申请（专利权）人： | 卡伊拉布斯公司 |
| 主分类号： | G02B17/00 | 分类号： | G02B17/00;G02B26/06;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用于处理光辐射的装置，包括至少两个光学反射元件，光学反射元件中的至少一个形成具有多个被称为校正位置的位置的校正元件，每个实现所述光辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置的空间相位轮廓对于所述校正位置的多个不同的反射/透射点具有不同的相移，并且所述校正位置中的至少两个具有不同的相位轮廓，其中所述至少两个光学反射元件限定多通过腔体，所述多通过腔体布置成使得所述光辐射在所述两个光学反射元件之间进行多次往返，使得每个光学反射元件在不同的反射位置处反射所述光辐射至少四次；所述多通过腔体不包括由透镜或偏振元件组成的任何中间光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 光辐射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理光辐射(108)的装置(100；200)，包括至少两个光学反射元件(102，104)，光学反射元件(102，104)中的至少一个形成具有多个被称为校正位置的位置的校正元件，每个实现所述光辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射/透射点具有不同的相移，并且所述校正位置(116)中的至少两个具有不同的相位轮廓，所述装置的特征在于：/n-所述至少两个光学反射元件限定多通过腔体，所述多通过腔体布置成使得所述光辐射(108)在所述两个光学反射元件(102，104)之间进行多次往返，使得每个光学反射元件在不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少四次；/n-所述多通过腔体不包括由透镜或偏振元件组成的任何中间光学元件。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡伊拉布斯公司，未经卡伊拉布斯公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910897652.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
