[发明专利]晶圆级封装用钛种子蚀刻液在审
申请号: | 201910901622.4 | 申请日: | 2019-09-23 |
公开(公告)号: | CN110438505A | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 沈文宝;黄雷;孟路强 | 申请(专利权)人: | 昆山成功环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/44 | 分类号: | C23F1/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215334 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种晶圆级封装用钛种子蚀刻液,该蚀刻液由A组分和B组分在使用前按体积比例混合而成,且A组分与B组分的比例为(0.8‑1):1;所述A组分为双氧水;所述B组分按照浓度包括以下组分:柠檬酸40‑80g/L双氧水稳定剂0.1‑10g/L、防侧蚀剂0.1‑10g/L、磷酸氢二钾30‑90g/L、磷酸二氢钾2‑6g/L、表面活性0.1‑10g/L;将上述的B组分按照组分比例配置好后再按比例与A组分混合均匀;均匀混合后根据需要再添加pH缓冲液调整到pH值控制在8‑9以内后,形成该钛种子蚀刻液;该钛种子蚀刻液需要在温度在30℃‑60℃之间时使用。本发明该钛种子蚀刻液具有性能稳定,适合超细线路,侧蚀小,对铜、铝几乎无腐蚀等特点。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻液 双氧水 双氧水稳定剂 柠檬酸 晶圆级封装 磷酸二氢钾 磷酸氢二钾 比例配置 表面活性 超细线路 组分混合 无腐蚀 侧蚀 防侧 种晶 封装 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆级封装用钛种子蚀刻液,其特征在于,该蚀刻液由A组分和B组分在使用前按体积比例混合而成,且A组分与B组分的混合比例为(0.8‑1):1;所述A组分为双氧水;所述B组分按照浓度包括以下组分:
将上述的B组分按照组分比例配置好后再按比例与A组分混合均匀;均匀混合后根据需要再添加pH缓冲液调整到pH值控制在8‑9以内后,形成该钛种子蚀刻液;该钛种子蚀刻液需要在温度在30℃‑60℃之间时使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山成功环保科技有限公司,未经昆山成功环保科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910901622.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铝栅刻开区硅渣清除组合物及硅渣清除方法
- 下一篇:退镀液的再生制备方法