[发明专利]用于超高真空中的反射镜无应力夹持及面形调整装置有效
| 申请号： | 201910904599.4 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN110618516B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 卢启鹏;赵晨行;宋源;彭忠琦;龚学鹏;王依;徐彬豪;张振 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B7/182 | 分类号： | G02B7/182 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及同步辐射光束线KB聚焦设备技术领域，具体为用于超高真空中的反射镜无应力夹持及面形调整装置；本发明要解决反射镜的自重对其面形形成影响，导致面形误差较高的技术问题。该装置具体包括：架体结构用以搭载一用于超高真空中的反射镜；压电陶瓷单元可用以对反射镜的底面形成支撑，多个球头支撑单元可用以配合压电陶瓷单元对反射镜的底面形成支撑，在工作状态时，一组压电陶瓷单元可在其对应的位置对反射镜施加一可调整的作用力，从而实现调节反射镜的面形；至少两组第一夹持单元在工作状态时相互配合形成夹持用以补偿反射镜的自身重力；和至少包括两个第二夹持单元和第一夹持单元相互配合，以在反射镜的宽度方向形成弹性夹持。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 超高 真空 中的 反射 应力 夹持 调整 装置 | ||
【主权项】：
1.用于超高真空中的反射镜无应力夹持及面形调整装置，其特征在于，包括：/n架体结构(10)，其用以搭载一用于超高真空中的反射镜(100)；/n压电陶瓷单元(20)，可用以对所述反射镜(100)的底面形成支撑，并具有一个第一支撑位(A1)，所述第一支撑位(A1)对应所述反射镜(100)的一个贝塞尔点；/n多个球头支撑单元(30)，可用以配合所述压电陶瓷单元(20)对所述反射镜(100)的底面形成支撑，并对应形成多个第二支撑位(A2)；/n多个所述第二支撑位(A2)对应所述反射镜(100)的多个贝塞尔点；/n其中，所述压电陶瓷单元(20)具有一工作状态；/n在所述工作状态时，一组所述压电陶瓷单元(20)可在其对应的所述第一支撑位(A1)对所述反射镜(100)施加一可调整的作用力，以使得所述反射镜(100)位于该第一支撑位(A1)上的高度可上下调节，从而实现调节所述反射镜(100)的面形；/n至少包括多个第一夹持单元(40)；/n其中，至少两组所述第一夹持单元(40)在所述工作状态时相互配合，以在所述反射镜(100)的长度方向形成夹持，并用以补偿所述反射镜(100)的自身重力；以及/n第二夹持单元(50)；/n至少包括两个沿所述反射镜(100)长度方向的一侧布置的所述第二夹持单元(50)和两个沿所述反射镜(100)长度方向的另一侧布置的所述第一夹持单元(40)相互配合，以在所述反射镜(100)的宽度方向形成弹性夹持。/n
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