[发明专利]在光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置有效
| 申请号： | 201910908044.7 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN110989181B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | T.弗兰克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在特别是微光刻的光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置，该装置包括：光学元件(110、510、610)；衍射结构(120、420、450、460、520、620)，具有局部变化的光栅周期；以及强度传感器布置；其中在光学系统的操作期间、以至少一级衍射在衍射结构(120、420、450、460、520、620)处衍射的电磁辐射通过光学元件(110、510、610)内实现的全内反射被指引到强度传感器布置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 中的 元件 曝光 期间 确定 能量 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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