[发明专利]TFT基板及其制备方法、显示装置

摘要

本发明公开了一种TFT基板及其制备方法、显示装置，其可以使得背沟道蚀刻‑氧化铟镓锌型TFT基板中的铜膜层的线宽更细，从而能够应用于解析度更高的布线，同时通过NF3和O2刻蚀气体对作为沟道底层的钼膜层进行干刻蚀，以防止氧化铟镓锌膜层受到损伤。

主权项

1.一种TFT基板，其特征在于，包括：/n一衬底基板；/n一栅极，设于所述衬底基板；/n一栅极绝缘层，覆盖于所述栅极；/n一有源层，设于所述栅极绝缘层；/n源极和漏极，设于所述有源层上；以及/n一钝化层，所述钝化层设置在所述有源层、所述源极、所述漏极和所述栅极绝缘层上；/n所述源极和所述漏极包括依次层叠设置的：/n一第一金属层，设于所述有源层上；/n一第二金属层，设于所述第一金属层上；/n一第三金属层，设于所述第二金属层上；/n所述第二金属层为镍或镍合金制成，所述第三金属层为铜材料制成。/n