[发明专利]真空处理装置和真空处理装置的控制方法有效

专利信息
申请号: 201910912500.5 申请日: 2019-09-25
公开(公告)号: CN110943010B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 石桥诚之 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。在减压环境下对被处理体进行规定的处理的真空处理装置具有:处理模块,其形成有真空处理室,真空处理室的室内被减压,在真空处理室内对被处理体进行规定的处理;真空搬送模块,其形成有以与真空处理室之间隔着隔断阀的方式设置的真空搬送室,真空搬送室的室内被保持为减压状态且设置有用于搬送被处理体的搬送机构;气体供给机构,其向真空搬送室供给至少用于防止氧化的规定的气体;以及控制部,其控制气体供给机构,其中,在空闲状态下,控制部控制气体供给机构以向真空搬送室供给规定的气体,进行调整以使空闲状态下的真空搬送室的氧浓度比将真空搬送室设为抽真空状态的情况下的氧浓度低。
搜索关键词: 真空 处理 装置 控制 方法
【主权项】:
暂无信息
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