[发明专利]背照式图像传感器光电子隔离层网栅的辅助图形结构有效

专利信息
申请号: 201910914910.3 申请日: 2019-09-26
公开(公告)号: CN110634899B 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 李葆轩;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦健
地址: 201315 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种背照式图像传感器光电子隔离层网栅的辅助图形结构,针对图像传感器的深槽隔离网栅结构的辅助图形,所述的辅助图形为包含两组相对平行的线段,两组相对平行的线段共形成四个交叉区域,以合围形成口字型,所述的每组对边均包含中间粗两端细的线段,其两端较细的部分相互交叉。或者是辅助图形包含口子型主体部分及四个顶角部分,且主体形成的四个顶角又由四个小口字型组成,分别与主体的相邻两边相接;所述的四个顶角向外延伸凸出;本发明在网栅结构图形中所能添加辅助图形较短的情况下,对辅助图形拐角处进行了交叉和外凸两种特殊优化处理,从而显著增加图形、特别是拐角处图形的工艺窗口。
搜索关键词: 背照式 图像传感器 光电子 隔离 层网栅 辅助 图形 结构
【主权项】:
1.一种背照式图像传感器光电子隔离层网栅的辅助图形结构,针对图像传感器的深槽隔离网栅结构,在其内部增加辅助图形,其特征在于:/n所述的辅助图形为封闭的结构,包含两组相对平行的线段,两组相对平行的线段共形成四个交叉区域,以合围形成口字型,所述的每组对边均包含中间粗两端细的线段,构成相邻的边的线段,其两端较细的部分相互交叉,围成封闭的口字型。/n
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