[发明专利]一种承载头和化学机械抛光设备有效
| 申请号： | 201910917838.X | 申请日： | 2019-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN112548848B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 赵德文;刘远航;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32;B24B37/005 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 魏朋 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种承载头，包括承载盘、柔性膜、环状压盘、保持环和至少一个柔性膜固定圈；所述柔性膜具有边缘皱壁和至少一个内皱壁，所述边缘皱壁及内皱壁被环状压盘夹紧至承载盘以形成可调压腔室；所述保持环耦接至所述承载盘下方并包围所述柔性膜固定圈；所述柔性膜固定圈卡合于所述边缘皱壁的外侧和/或内侧，以保持所述边缘皱壁；所述柔性膜固定圈和所述保持环中分别配置磁动部，使得柔性膜圆周边缘可受控下压。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 承载 化学 机械抛光 设备 | ||
【主权项】：
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