[发明专利]彩膜基板及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201910918363.6 | 申请日： | 2019-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN110579901B | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 李文波 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使第二对位图形在透明衬底上的正投影与第一对位图形在透明衬底上的正投影错开；基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：/n在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；/n采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；/n基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构。/n
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