[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910922372.2 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110957316A 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 廖忠志 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/423;H01L21/8238
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 于磊;陈曦
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开实施例提供半导体装置。半导体装置包括第一纳米结构与一第二纳米结构、第一栅极结构、第二栅极结构以及源极/漏极接点。第一纳米结构与第二纳米结构形成在基底上。第一纳米结构与第二纳米结构各包括多个半导体层、一通道区以及一源极/漏极区。第一栅极结构包裹第一纳米结构的多个半导体层。第二栅极结构包裹第二纳米结构的多个半导体层。源极/漏极接点接触第一纳米结构的至少一半导体层与第二纳米结构的至少一半导体层。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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