[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201910922566.2 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110970284B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 东野秀史 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;鹿屹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明具备：腔室，可维持比大气压更被减压的环境；等离子体发生部，在腔室的内部发生等离子体；气体供给部，向腔室的内部供给气体；放置部，位于发生等离子体的区域的下方，放置处理物；减压部，位于放置部的下方，对腔室的内部进行减压；及支撑部，在腔室的内部空间中支撑放置部。支撑部具有：安装部，位于放置部的下方，设置放置部；及梁，在腔室的内部从腔室的侧面朝着腔室的中心轴延伸，一端连接于安装部的侧面，在内部具有连接于腔室的外部空间的空间。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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