[发明专利]清洗微影工具的方法在审
| 申请号： | 201910924604.8 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110967938A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 陈明威;李信昌;林秉勳 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于清洗微影工具的遮罩，包括遮罩基材以及遮罩基材上的涂层。涂层配置以捕捉来自微影工具的微粒污染物质。还提供了一种清洗微影工具的方法，包括制备清洗遮罩，清洗遮罩包含形成于基材上的粒子捕捉层。此方法包括经由微影工具的遮罩转移路径，转移清洗遮罩。更进一步地，此方法还包括分析由粒子捕捉层捕捉的粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 工具 方法 | ||
【主权项】：
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