[发明专利]光阻组成物及形成光阻图案的方法在审
| 申请号： | 201910926287.3 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110955112A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 刘朕与;张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光阻组成物及形成光阻图案的方法。形成光阻图案的方法包括：形成上方层于基板上的光阻层上方，上方层包含漂浮添加物聚合物；选择性曝光光阻层至光化辐射；显影光阻层，以在光阻层中形成图案；以及移除上方层。漂浮添加物聚合物为硅氧烷聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 组成 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
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