[发明专利]真空熔炼制备磁控溅射靶的冷却装置

摘要

本发明公开了一种真空熔炼制备磁控溅射靶的冷却装置，包括：冷却水槽，其内部平行间隔设有两个隔层，两个隔层密封卡设在冷却水槽的相对两侧壁之间，以将冷却水槽分隔为位于两侧的冷水腔和位于中间的冷却腔，冷水腔设有进水口和出水口，每个隔层包括依次贴附设置的钢板、保温板、耐高温板，其中，钢板与冷却腔接触，耐高温板与冷水腔接触；一对模具，一个模具贴附设置在一个隔层上方，每个模具均具有一个缺口，一对模具对合后的缺口形成一个漏液口。本发明通过一对模具使得浇铸口的毛刺等缺陷延伸到漏液口处，确保获得的靶材成品不会残留因浇铸口带来的缺陷，本发明让冷却过程达到一个平衡点，确保最终的用于磁控溅射的靶材的品质，无裂纹缩孔。