[发明专利]匀化的非相干光源装置在审
申请号: | 201910932858.4 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN110658632A | 公开(公告)日: | 2020-01-07 |
发明(设计)人: | 高智星;王钊;李静;胡凤明;张绍哲 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102413 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种匀化的非相干光源装置。该装置包括放大自发辐射光源、光束耦合单元、以及匀光光导,其中,所述放大自发辐射光源、所述光束耦合单元、以及所述匀光光导沿着光束传播方向依次设置,并且设置的位置和朝向使得所述放大自发辐射光源输出的光耦合到所述匀光光导的输入端面,所述匀光光导的长度与口径之比大于或等于预设比值,以使所述放大自发辐射光源输出的光在所述匀光光导的输出端面处成像的大小大于或等于所述匀光光导口径的2倍。这种装置具备光束均匀性对光源泵浦均匀性的依赖小、泵浦光源利用效率高、输出二维平顶光束均匀性好的优势,是一种效费比高、实现难度小的匀化的非相干光源。 | ||
搜索关键词: | 放大自发辐射 非相干光源 光束耦合 光源输出 匀化 光源 口径 光束均匀性 泵浦光源 光束传播 均匀性好 平顶光束 输出端面 输入端面 依次设置 光源泵 光耦合 均匀性 效费比 二维 预设 成像 输出 | ||
【主权项】:
1.一种匀化的非相干光源装置,其特征在于,包括放大自发辐射光源、光束耦合单元、以及匀光光导,其中,所述放大自发辐射光源、所述光束耦合单元、以及所述匀光光导沿着光束传播方向依次设置,并且设置的位置和朝向使得所述放大自发辐射光源输出的光耦合到所述匀光光导的输入端面,所述匀光光导的长度与口径之比大于或等于预设比值,以使所述放大自发辐射光源输出的光在所述匀光光导的输出端面处成像的大小大于或等于所述匀光光导口径的2倍。/n
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