[发明专利]基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台及分析方法在审
| 申请号： | 201910933874.5 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110715972A | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 熊博;白玉娜;苏醒 | 申请（专利权）人： | 华中师范大学 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;H01J49/00;H01J49/16 |
| 代理公司： | 42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 乔宇;徐晓琴 |
| 地址： | 430079 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于质谱检测领域，具体涉及基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台及分析方法。本发明所述质谱监测平台包括DRR、高压直流电源、高分辨质谱仪，所述双喷雾排斥反应器由两个双液流混合单喷雾芯片组成、或者是一枚由两个双液流混合单喷雾组成的集成芯片，所述双液流混合单喷雾的结构包括反应物通道、ESI电喷雾液通道和电喷雾尖端，在两个电喷雾尖端上连接高压直流电源的正负极，电喷雾尖端形成的电喷雾进入高分辨质谱仪检测。本发明开发了一种双喷雾排斥反应器(DRR)，通过调节两喷雾尖端的相对位置来控制两个泰勒锥束之间的排斥，从而调节反应物混合区域，进而达到调控反应持续时间的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 喷雾 电喷雾 双液流 排斥 高压直流电源 监测平台 反应器 高分辨 质谱 反应物混合 反应物通道 质谱仪检测 集成芯片 喷雾尖端 质谱检测 泰勒锥 正负极 质谱仪 芯片 调控 分析 开发 | ||
【主权项】：
1.一种基于双喷雾排斥界面的质谱监测平台，其特征在于，包括双喷雾排斥反应器(Dual-spray Repulsion Reactor，DRR)、高压直流电源、高分辨质谱仪，所述双喷雾排斥反应器由两个双液流混合单喷雾芯片组成、或者是一枚由两个双液流混合单喷雾组成的集成芯片，所述双液流混合单喷雾的结构包括反应物通道、ESI电喷雾液通道和电喷雾尖端，在两个电喷雾尖端上分别连接高压直流电源的正负极，电喷雾尖端形成的电喷雾进入高分辨质谱仪检测。/n
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