[发明专利]一种选择性还原降解制备木质素低聚物的方法有效
| 申请号： | 201910934089.1 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110590860B | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 杨倩;刘贵锋;孔振武 | 申请（专利权）人： | 中国林业科学研究院林产化学工业研究所 |
| 主分类号： | C07G1/00 | 分类号： | C07G1/00 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 冯慧 |
| 地址： | 210042 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种选择性还原降解制备木质素低聚物的方法。该方法以纳米ZrO |
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| 搜索关键词： | 一种 选择性 还原 降解 制备 木质素 低聚物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种选择性还原降解制备木质素低聚物的方法，其特征在于，以纳米ZrO
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