[发明专利]通过PEALD使用氮气沉积氧化物膜的方法在审
| 申请号： | 201910934162.5 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN111005006A | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 财津优;深泽笃毅;贾玛·特里加伽玛 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/40;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 乐洪咏;朱黎明 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种通过PEALD使用氮气沉积氧化物膜的方法，具体公开了一种将氧化物膜沉积在模板上以在半导体制造中图案化的方法，其包含以下步骤：(i)在反应空间中提供其上具有图案化结构的模板；和(ii)使用氮气作为运载气体并且还作为稀释气体，通过等离子体增强原子层沉积(PEALD)将氧化物膜沉积在所述模板上，由此用所述氧化物膜完全覆盖所述模板和所述图案化结构的暴露顶表面。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 peald 使用 氮气 沉积 氧化物 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASMIP控股有限公司，未经ASMIP控股有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910934162.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：自发光显示装置
- 下一篇：一种装配式建筑构件生产系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
