[发明专利]掩模对准装置和掩模对准方法有效
| 申请号： | 201910935426.9 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112575287B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 陈雪影;李运锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模对准装置和掩模对准方法。此掩模对准装置包括：探测单元、照明单元和工件台单元；照明单元包括背光光源、同轴光源和环形光源；背光光源位于工件台单元背离探测单元的一侧；工件台单元背离背光光源的一侧表面用于承载待对位掩模；同轴光源的光轴、环形光源的光轴以及探测单元的中心轴均同轴设置，且同轴光源、环形光源和探测单元均位于工件台单元的同一侧；待对位掩模包括定位标记，定位标记包括通孔和/或凹槽；背光光源用于在定位通孔时提供照明，同轴光源和环形光源用于在定位凹槽时提供照明。本发明的技术方案可提高掩模中的定位标记的测量准确度，从而提高掩模与框架的对准精度。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
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