[发明专利]功率半导体模块衬底在审
申请号: | 201910940010.6 | 申请日: | 2019-09-30 |
公开(公告)号: | CN110867438A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 周宇;罗皓泽;李武华;毛赛君;沈捷;何湘宁 | 申请(专利权)人: | 臻驱科技(上海)有限公司;浙江大学 |
主分类号: | H01L25/18 | 分类号: | H01L25/18;H01L23/495 |
代理公司: | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 刘锋 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明揭示了一种功率半导体模块衬底。功率半导体模块衬底包括:第一功率金属敷层、第二功率金属敷层、第三功率金属敷层、第四功率金属敷层、以及辅助金属敷层,该辅助金属敷层形成于第一功率金属敷层与第二功率金属敷层之间以及第三功率金属敷层与第四功率金属敷层之间,在该辅助金属敷层上形成有栅极信号端子,辅助金属敷层在晶体管芯片和二极管芯片的排列方向上延伸,至少延伸至与排列方向上位于最边缘处的晶体管芯片的控制电极正对的位置。根据本发明,能够通过合理的驱动回路布置从而减小并联芯片的杂散电感和不均程度。 | ||
搜索关键词: | 功率 半导体 模块 衬底 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于臻驱科技(上海)有限公司;浙江大学,未经臻驱科技(上海)有限公司;浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910940010.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:投影设备的软件定制方法及装置
- 下一篇:一种热循环烘干箱及其烘干方法
- 同类专利
- 专利分类