[发明专利]一种蓝宝石晶片退火工艺在审
| 申请号： | 201910946943.6 | 申请日： | 2019-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN110846720A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 丁云海;卢东阳;余胜军;张京伟 | 申请（专利权）人： | 淮安澳洋顺昌集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;C30B29/20 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 温福雪 |
| 地址： | 223001*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于晶片加工制作技术领域，提供了一种蓝宝石晶片退火工艺，多级退火处理如下：第一步，退火炉升温，由室温升温至1000℃，梯度2.5‑3℃/min，并恒温30‑60min；第二步，升温至1450℃，梯度2.5‑3℃/min，恒温8‑12h；第三步，缓慢降温至1200℃，降温梯度1.5‑2℃/min，并恒温2‑3h；第四步，继续降温至600℃，降温梯度1.5‑2℃/min，并继续恒温2‑3h；退火炉停止工作，将晶片自然降温至室温。通过本发明可以将切割、研磨的warp进行分类退火，达到应力释放，并使得蓝宝石晶片warp较一致。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 晶片 退火 工艺 | ||
【主权项】：
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